Новости

Как использовать оксид церия для польского стекла

Jul 02, 2025 Оставить сообщение

1. Материалы и оборудование
Основные материалы: Оксид церияПорошок с чистотой большей или равной 99%, размером частицы 1-5 мкм (крупный размер частиц 3-5 мкм для грубой полировки, мелкий размер частиц 1-2 мкм для тонкой полировки)

Вспомогательные материалы:деионизированная вода, регулятор рН (NaOH/лимонная кислота)
Инструменты и оборудование: полировочная машина (ручная или электрическая), полиуретановая/шерстяная полировка, мешалка, тестовая бумага PH, измерительная чашка

2. Стандартные рабочие процедуры
1. Предварительная обработка
Очистка стекла: обезживание с помощью этанола/ацетона, ультразвуковая очистка для удаления микрон- частиц размером
Приготовление полировочной жидкости: перемешайте в однородную суспензию в соответствии с соотношением оксида церия: вода=1: 5-10, отрегулируйте pH до 9-11 (щелочная среда ускоряет химическую реакцию)

2. Операция полировки
Отладка оборудования: исправьте влажную полировочную площадку, установите скорость, 100-300 об / мин для обычного стекла, 50-100 об / мин для оптического стекла
Загрузка и полировка материала: распылитель, нанесите давление 0,1-0,5 МПа, используйте 8-формованную траекторию и пополняйте материал каждые 2-5 минут
Мониторинг процесса: наблюдайте за шероховатостью с помощью микроскопа (Target RA<1μm), and detect the surface error with interferometer (PV<λ>
3. post - обработка
Очистка: промойте деионизированной водой → протирание изопропиловым спиртом → сухой горячим воздухом ниже 60 градусов
Инспекция качества: тест на коэффициент пропускания света (нормальное стекло больше или равное 90%), проверка ультрафиолетового света на поверхностные дефекты
3. Общие проблемы
Поверхностное запотевание: суспендия слишком концентрированная / полировка слишком чрезмерная, разбавьте суспензию и сокращают время от полировки
Углубление царапин: примеси в полировальной площадке / неравномерном давлении, замените полировочную площадку и калибруйте систему давления
Низкая эффективность: отклонение / температура рН слишком низкая, отрегулируйте pH до 10 и разогревайте суспензию до 25 градусов

Отправить запрос